| English | Ukrainian |
| amorphous silicon | аморфний кремній (а-Si) |
| bare silicon | кремній з відкритою поверхнею (без захисного оксидного шару) |
| black silicon | чорний кремній (оптичний ефект темного кремнію на дні витравлених канавок) |
| boron-implanted silicon | кремній з імплантованими іонами бору |
| bulk silicon | об'ємний кремній (стосовно кремнієвої підкладки без епітаксійного шару) |
| capped silicon | кремнієва підкладка з покриттям |
| counterdoped silicon | кремній з легуванням, що компенсується |
| CVD silicon | шар кремнію, одержаний методом хімічного осадження з парової фази |
| CZ silicon | кремній, одержаний методом Чохральського |
| Czochralski silicon | кремній, одержаний методом Чохральського |
| doped silicon | легований кремній |
| electron-irradiated silicon | кремній, підданий електронно-променевій обробці |
| epitaxial silicon | епітаксійний кремній |
| floating-gate silicon process | технологія МОН ІС з плаваючими кремнієвими затворами |
| floating-zone silicon | кремній, одержаний методом зонної плавки |
| float-zone silicon | кремній, одержаний методом зонної плавки |
| germanium hardened silicon | кремній, зміцнений германієм |
| glow-discharge silicon | аморфний кремній, одержаний в тліючому розряді |
| gold-silicon eutectic | евтектика золота і кремнію |
| hardware silicon compilation | апаратна кремнієва компіляція (в кремнієвих компіляторах ВІС) |
| heavily-doped silicon conduit | перемичка з сильнолегованого кремнію |
| heavily-doped silicon conduit | низькоомна кремнієва перемичка |
| high-resistivity silicon | кремній з високим питомим опором |
| hydrogenated amorphous silicon | гідрогенізований аморфний кремній |
| implantation-amorphised silicon | кремній, перетворений на аморфний стан під дією іонної імплантації |
| ion-implanted silicon | іонно-імплантований кремній |
| isolated silicon epitaxy | ізольована епітаксія кремнію |
| laser-annealed silicon-on-insulator | КНС-структура, піддана лазерному відпалу |
| laser-processed silicon-on-insulator | КНД-структура, одержана лазерною обробкою |
| laser-recrystallized silicon-on-insulator | КНД-структура, одержана лазерною рекристалізацією |
| loss silicon area | програш у використовуванні кремнієвого кристала |
| mercury-probe-silicon diode | р–n-перехід між кремнієм і ртутним зондом |
| metal-insulator-silicon | структура метал–діелектрик–кремній |
| microcrystalline silicon | полікристалічний кремній |
| n+ diffused silicon | кремнієва дифузна область n+-типу |
| native silicon | вихідний кремній |
| native-grown silicon dioxide | власний діоксид кремнію |
| neutron-doped silicon | нейтронно-легований кремній |
| planar silicon topology | топологія планарного кремнієвого напівпровідникового приладу |
| polycrystalline silicon gate | затвор з полікристалічного кремнію |
| polycrystalline silicon gate | полікремнієвий затвор |
| polycrystalline silicon-gate MOS | МОН-структура з полікремнієвим затвором |
| polycrystalline-silicon interconnection | полікремнієве міжз'єднання |
| polycrystalline-silicon interconnection | міжз'єднання з полікристалічного кремнію |
| programmable silicon circuit board | програмована кремнієва плата для монтажу |
| recessed silicon dioxide | діоксид кремнію, сформований в канавках |
| self-aligned silicon gate TFT | тонкоплівковий транзистор з кремнієвим самосуміщеним затвором |
| semiconductor-grade silicon | кремній напівпровідникової чистоти |
| shared silicon technology | технологія формування на одній кремнієвій пластині ІС різних типів |
| silicided silicon | кремній з шаром силіциду |
| 111 silicon | кремній, орієнтований в кристалографічній площині 111 |
| silicon breadboard | кремнієвий макетний кристал |
| silicon compiler | кремнієвий компілятор |
| silicon compiler method | метод проектування спеціалізованих ІС з використанням кремнієвого компілятора |
| silicon cratering | утворення кратерів воронок в кремнії |
| silicon CZ100 | злиток кремнію з орієнтацією 100, вирощений за методом Чохральського |
| silicon dioxide | діоксид кремнію (SiO2) |
| silicon dioxide fusoisolator | плавка ізоляційна перемичка з діоксиду кремнію |
| silicon-dioxide masking | маскування діоксидом кремнію |
| silicon dopant | домішка для кремнію |
| silicon etch solution | рідкий травник для кремнію |
| silicon fusion bonding | з'єднання кремнієвих пластин методом сплавлення (Технологія з'єднання гідрофілізованих підкладок, зроблених з Si, окисленого кремнію і т.д. (первиним водневим зв'язком між поверхнями і потім зв'язком Si-O-Si після відпалу при високій температурі)) |
| silicon-gate FET | польовий транзистор з кремнієвим затвором |
| silicon-gate MOS | МОН-структура з кремнієвим затвором |
| silicon-gate technology | технологія МОН ІС з полікремнієвими затворами |
| silicon-gate MOS transistor | МОН-транзистор з кремнієвим затвором |
| silicon-germanium superlattice | надгратка на основі шарів Si–Ge на кремнії |
| silicon grease | силіконове мастило |
| silicon-in-insulator technology | технологія ІС на КВД-структурі |
| silicon-in-insulator technology | технологія ІС із структурою типу "кремній в діелектрику" |
| silicon-in-insulator technology | КВД-технологія |
| silicon-in-sapphire structure | структура типу "кремній в сапфірі" |
| silicon-in-sapphire structure | КВС-структура |
| silicon-in-sapphire technology | технологія ІС із структурою типу "кремній в сапфірі" |
| silicon-in-sapphire technology | технологія ІС з КВС-структурою |
| silicon-in-sapphire technology | КВС-технологія |
| silicon insulator structure | структура типу "кремній на діелектрике" |
| silicon insulator structure | КНД-структура |
| silicon-island definition | формування малюнка кремнієвого острівця |
| silicon monocrystal | кремнієвий монокристал |
| silicon monocrystal | монокристал кремнію |
| silicon monoxide | монооксид кремнію (SiO) |
| silicon nitride | нітрид кремнію (Si3N4) |
| silicon-on-dielectric device | прилад із структурою типу "кремній на діелектриці" |
| silicon-on-insulator | структура типу "кремній на діелектриці" |
| silicon-on-insulator | КНД-структура |
| silicon-on-insulator device | прилад із структурою типу "кремній на діелектриці" |
| silicon-on-insulator material | матеріал із структурою типу "кремній на діелектриці" |
| silicon-on-insulator material | КНД-матеріал |
| silicon-on-insulator structure | структура типу "кремній на діелектрике" |
| silicon-on-insulator structure | КНД-структура |
| silicon-on-insulator technology | технологія ІС з КНД-структурою |
| silicon-on-insulator technology | технологія ІС із структурою типу "кремній на діелектрику" |
| silicon-on-insulator technology | КНД-технологія |
| silicon-on-sapphire | структура типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire | КНС-структура |
| silicon-on-sapphire composite | структура типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire composite | КНС-структура |
| silicon-on-sapphire device | прилад із структурою типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire integration | ІС на КНС-структурі |
| silicon-on-sapphire integration | ІС на структурі типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire material | матеріал із структурою типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire material | КНС-матеріал |
| silicon-on-sapphire ribbon | сапфірова стрічка з шаром кремнію |
| silicon-on-sapphire structure | структура типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire structure | КНС-структура |
| silicon-on-sapphire technology | технологія ІС із структурою типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-sapphire technology | технологія ІС з КНС-структурою |
| silicon-on-sapphire technology | КНС-технологія |
| silicon-on-sapphire transistor | транзистор з КНС-структурою |
| silicon-on-sapphire transistor | транзистор із структурою типу "кремній на сапфірі" |
| silicon-on-spinel structure | структура типу "кремній на шпінелі" |
| silicon-over oxide-semiconductor structure | структура типу "кремній на оксидному діелектрику" |
| silicon-over oxide-semiconductor structure | структура типу "кремній на оксиді" |
| silicon oxide | діоксид кремнію (SiO2) |
| silicon oxynitride | оксинітрид кремнію |
| silicon pattern | малюнок, сформований в кремнієвій підкладці |
| silicon pattern | кремнієва структура |
| silicon polycrystal | полікремній |
| silicon polycrystal | полікристалічний кремній |
| silicon pool | кремнієвий розплав |
| silicon pool | розплав кремнію |
| silicon pyramid | епітаксійний горб кремнію у вигляді піраміди |
| silicon rack | кремнієва базова несуча конструкція |
| silicon-sapphire interface region | область з поверхнею розділу кремній–сапфір |
| silicon-silicon dioxide interface | межа розділу кремній–діоксид кремнію |
| silicon single-crystal | кремнієвий монокристал |
| silicon slab | кремнієва пластина |
| silicon-source gas | газоподібне джерело кремнію (напр. силан) |
| silicon technology | технологія отримання кремнію |
| silicon technology | технологія кремнієвих напівпровідникових приладів |
| silicon tetrachloride | тетрахлорид кремнію (SiCl4) |
| silicon through-hole substrate | кремнієва підкладка з крізними отворами |
| silicon trench | канавка в кремнієвій підкладці |
| silicon trough | канавка в кремнії |
| silicon wafer technology | технологія обробки кремнієвих пластин |
| single-crystal silicon | монокристалічний кремній |
| starting silicon slice | вихідна кремнієва пластина |
| zero-defect silicon | бездефектний кремній |
