| |||
anisotropic etching (травление, скорость протекания которого зависит от кристаллографического направления обрабатываемого материала); crystallographically sensitive etching (травление, скорость протекания которого зависит от кристаллографического направления обрабатываемого материала); orientation dependent etching (травление, скорость протекания которого зависит от кристаллографического направления обрабатываемого материала); orientation dependent etch | |||
orientation dependent etching |